带你了解PDS固态扩散源(一)

2020年06月30日

 

1.什么是PDS固态源?


在微电子行业中,对硅片进行扩散需要用到硼或者磷源。离子注入是8“及以上尺寸硅片最常用的方式,液态或者气态源则广泛用在均匀性要求不高的工艺中。而固态扩散源是一种高要求扩散的优良的解决方案。圣戈班从上世纪70年代开始开发固态源工艺,目前提供全方位的产品和技术支持。PDSR是Planar Diffusion Sources (平面扩散源)的商标。

 


2.为什么要用PDS固态源?


首先是均匀性良好,一般使用者反馈片内和片间均匀性可以控制到1%~2%。且成品缺陷程度低。其次是PDS固态源无毒无害,相较于液态或者气态源,PDS的设备毒害防护要求很低。从液态或者气态源改造为固态源仅需要修改气路,添置专用石英舟等简单改造即可使用。 使用固态源产生的参杂剂封闭在硅片周围,不会附着在设备管道或者门上,易于设备清理和维护。可以简单通过扩散温度,时间和气流来控制需要的目标产品,不连续生产的时候也方便取出和保存。通过工艺中间的膜厚测量可以预判生产品质。跟离子注入相比,固态源一次扩散一个舟可以扩散25片,效率很高。

 

 

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